基于非晶氮化物薄膜的宽谱光电探测器件及其制备方法
基于非晶氮化物薄膜的宽谱光电探测器件及其制备方法
专利号:  201810862215 .2
发明人:  潘书生 刘志宇 葛军 姚玲敏
专利权人:  广州大学
专利类型:  发明
专利授权日:  2019.11.12
技术领域:  电子信息
转让价格:  面聊
专利介绍
本发明涉及一种基于非晶氮化物薄膜的宽谱光电探测器件及其制备方法,所述光电探测器件包括顶电极、非晶氮化物半导体层、p型硅层以及底电极,其p型硅层与非晶氮化物半导体层构成异质结。其中非晶氮化物半导体层为非晶SnNx 层,其中,x=0 .8-1 .4。本发明采用具有宽光谱吸收特征的非晶态Sn N x 薄膜材料 ,实现2 8 0 ~ 1150nm紫外-可见-近红外波段宽谱光电探测。其中350~1150nm波长范围内灵敏度超过100%。本发明的探测器在905nm响应度为32A/W,外量子效率为4000% ;其器件的响应和下降时间分别为8 和9ms。由此可见本探测器可用于光谱仪、成像器件,激光雷达等领域。

   

技术领域

本发明涉及光电探测器领域,尤其涉及一种基于非晶氮化物薄膜的宽谱光电探测器件及其制备方法。

 

背景技术

号转医疗环境科技领域都具有广在快速驾驶技术使激光雷达设必不重要元件激光雷达一般波长为905nm 或1550nm要非常灵快速响能终()等涉是手下光学器。[0003] (Si)IV较高广领域例如使905nm激光雷达技术主要硅基光气衰(气条件)粒子样可的天对于这些激光雷达说是一多数情况905nm的光失更因为1550nm905nm1A/W于硅 900nm红外了硅在宽带光

国内外很多研究小组开展了硅基异质结光探测器研究。例如,美国佐治亚理工学

院王中林院士等在《先进材料》(Advanced Materials2017年,29卷,1701412)报道了p Si与n型ZnO纳米线阵列异质结光探测器,在低电压(-2V)下,波长为1060nm近红外光对应的器件灵敏度达到4000%。中国石油大学(华东)凌翠翠等人在《氧化锌/p-n异质结紫外光探测器及其制备方法》(申请号201610021014 .0)提供了一种纳米氧化锌/硅薄膜形成的p-n 异型异质结的高性能紫外光探测器。在365nm紫外光照下光电流与暗电流之比(开关比) 10000%,响应时间约为0 .125秒。上海大学王林军等人在《一种硅基ZnS薄膜紫外可见光光电探测器的制备方法》(专利号ZL201410001041 .2) ,提供了一种硅基ZnS薄膜紫外可见光探测器的制备方法。

本发明的发明人发现,现有技术中的光电探测器材料均为多晶或单晶,晶态材料光响应范围仅限于带隙以上,因此器件存在着难以在宽波长范围实现高灵敏探测的不足之处;此外,材料制备方法难以与现有主流的半导体工艺兼容。

III-V族氮化物是重要的半导体材料,例如GaNAlGaN材料在发光和光电探测器件等方面占据重要的一席之地。氮化锡属于IV族氮化物半导体,在电致变色,锂离子电池等方面具有应用。例如,汪涛在《一种用于锂电池的氮化锡/硅负极材料及其制备方法》(申请号: 201711013690 .4)提供一种面向锂电池应用的氮化锡/硅负极材料制备方法。但是并未涉及如何应用于光探测器件。


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